SNK施努卡
RTR型真空等离子设备（RTR2000-W550 RTR2000L-W800H）
处理宽幅：RTR2000L-W550：100～800mm（水平电极）TR2000L-W800H：100～800mm（垂直电极）真空室规格：RTR2···
产品描述
处理宽幅：
RTR2000L-W550：100～800mm（水平电极）
TR2000L-W800H：100～800mm（垂直电极）
真空室规格：
RTR2000L-W550：2000L（可定制）
RTR2000L-W800H：2000L（可定制）
控制系统：触摸屏+PLC控制
真空测定系统：皮拉尼真空计
气体计量系统：精确质量流量控制计
气体路数：标配2路工作气体，可扩展至5路工作气体
等离子发生器：20KW等离子体发生源，40KHz（可选13.56MHz）
工作气体：2-5路工作气体可选：Ar2、N2、H2、O2、CF4
特点：主要用于处理100～800mm宽幅之材料，结构简单可靠，配备张力和纠偏控制系统，上下料方便，可用于刻蚀工艺。
用 途：用于处理PE薄膜、芳纶、PET薄膜，聚酯薄膜，PI聚酰亚胺薄膜、FPC柔性线路板的真空卷对卷设备。
※ 真空室内置张力控制系统，有效保护材料涨缩，使处理更加平稳；
※ 高性能等离子发生器，激发更为稳定之等离子体；
※ 特殊电极结构，更适合宽幅双面材料进行等离子体表面处理；
※ 采用中通水冷电极，真正实现过程温度控制，均衡均一；
※ 独特的卷曲设计，有效解决了卷式材料穿料问题，牵引材料更加便捷；
※ 变频节能，通过真空制自动调节变频器频率，自动调节真空泵转速维持真空度。